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電鍍銅工藝中氯離子消耗過大原因分析

發布時間:2026-03-31 06:28:40 瀏覽量:21891 次
       目前隨著印製線路板向高密度、gaojingdufangxiangfazhan,duiliusuanyandutonggongyitichulegengjiayangedeyaoqiu,bixutongshikongzhihaodutonggongyiguochengzhongdegezhongyinsu,cainenghuodegaopinzhideduceng。xiamianzhenduidutonggongyiguochengzhongchuxianlvlizixiaohaoguodadexianxiang,fenxilvlizixiaohaoguodadeyuanyin。
       出現氯離子消耗過大的前因
       鍍銅時線路板板麵的低電流區出現"無光澤"現象,氯方子濃度偏低;一般通過添加鹽酸後,板麵低電流密度區的鍍層"無光澤"現象才能消失,鍍液中的氯離子濃度才能達到正常範圍,板麵鍍層光亮。如果要通過添加大量鹽酸來解決低電流密度區鍍層"無光澤"現象,就不一定是氯離子濃度太低而造成的,需分析其真正的原因。如果采取添加大量鹽酸:一來,可能會產生其它後果,二來增加生產成本,不利於企業競爭。
       正確分析"低電流密度區鍍層無光澤"原因
       通過添加大量的鹽酸來消除"低電流密度區鍍層不光亮"現(xian)象(xiang),說(shuo)明(ming)如(ru)是(shi)氯(lv)離(li)子(zi)過(guo)少(shao),才(cai)需(xu)添(tian)加(jia)鹽(yan)酸(suan)來(lai)增(zeng)加(jia)氯(lv)離(li)子(zi)的(de)濃(nong)度(du)達(da)到(dao)正(zheng)常(chang)範(fan)圍(wei),使(shi)低(di)電(dian)流(liu)密(mi)度(du)區(qu)鍍(du)層(ceng)光(guang)亮(liang)。如(ru)果(guo)要(yao)添(tian)加(jia)成(cheng)倍(bei)的(de)鹽(yan)酸(suan)才(cai)能(neng)使(shi)氯(lv)離(li)子(zi)的(de)濃(nong)度(du)達(da)到(dao)正(zheng)常(chang)範(fan)圍(wei)?是(shi)什(shen)麼(me)在(zai)消(xiao)耗(hao)大(da)量(liang)的(de)氯(lv)離(li)子(zi)呢(ne)?氯(lv)離(li)子(zi)濃(nong)度(du)太(tai)高(gao)會(hui)使(shi)光(guang)亮(liang)劑(ji)消(xiao)耗(hao)快(kuai)。說(shuo)明(ming)氯(lv)離(li)子(zi)與(yu)光(guang)亮(liang)劑(ji)會(hui)產(chan)生(sheng)反(fan)應(ying),過(guo)量(liang)的(de)氯(lv)離(li)子(zi)會(hui)消(xiao)耗(hao);反過來,過量的光亮劑也消耗氯離子。因為氯離子過少和光亮劑過量都是造成低電流密度區鍍層不光亮"的主要原因,因此可見,造成"鍍銅中氯離子消耗過大的主要原因是光亮劑濃度太高。



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