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滾鍍銅鎳工件鍍層局部起泡的原因及處理方法

發布時間:2026-03-31 11:23:59 瀏覽量:22424 次
       問題:滾鍍銅鎳工件鍍層局部起泡,但工件彎折至斷裂卻不起皮
       可能原因:遊離NaCN過低
       原因分析:該工廠是常溫滾鍍氰化鍍銅,外觀銅鍍層正常,經滾鍍鎳後,外觀鎳層也正常,經100℃左右溫度烘烤後,卻出現上述現象。
       若把正常鍍鎳上鍍好銅的工件放到產生“故障”deniecaoneidiandu,yongtongyiwenduhongkao,shiyanjieguomeiyouqipao,biaomingdunieyeshizhengchangde。nameguzhangkenengchanshengyutongcaonei,weilejinyibuyanzhengguzhangshifouchanshengyutongcao,jiangjingguoyangeqianchulidegongjianfangzaigai“故障”銅槽內電鍍後,再用同一溫度去烘烤,試驗結果,鍍層起泡。由此可確認,故障發生在銅槽。
       工件彎曲至斷裂,鍍層沒有起皮,說明前處理是正常的。剝開起泡鍍層,發現基體潔淨,這進一步說明電鍍前處理沒有問題。
       qinghuaducengyibanjiehelihenhao,yewucuixing。ducengfashengjubuqipaodeyuanyin,zhuyaoshiyouliqinghuawuhanliangbuzu,huozheduyeneizazhiguoduo。jingguohuayanfenxi,qinghuayatonghanliangwei14g/L,而遊離含量僅為4g/L。從分析結果來看,遊離氰化鈉含量低,工作表麵活化作用不強,易產生鍍層起泡。
       處理方法:用3~5g/L活性炭吸附處理鍍液後,再分析調整鍍液成分至規範,從小電流電解4h後,試鍍。
       在此必須指正,該鍍液的氰化亞銅含量也偏低,常溫下滾鍍氰化亞銅的含量應在25g/L以上,若同時調整氰化亞銅的含量,則遊離氰化鈉的含量應在15g/L左右。


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